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以下に、TFT LCD スクリーンのさまざまな特性を詳しく紹介します。

（1）大規模：1990年代初頭に第一世代の大型ガラス基板（3000mm×400mm）TFTが登場し、2000年前半にはガラス基板面積が6800mm×880mmに拡大し、950mm×1200mmのガラス基板も稼働している最近。

(2) 高集積: LCD 投影 1.3 インチ TFT ディスプレイ チップの解像度は XGA で、数百万のピクセルが含まれています。 解像度は です。 SXGA(1280x1024)の16.1インチTFTアモルファスシリコンの膜厚はわずか50ナノメートルです。 TABONGLASとSYSTEMONGLASSの技術統合、機器や供給の技術要件、技術的難易度は従来のLSIよりも高くなります。

(3) 充実した機能：TFT液晶ディスプレイはもともとマトリクスアドレス選択回路として使用されており、これにより液晶ライトバルブの特性が向上しました。 高解像度ディスプレイの場合、LCD 画面は 0 ～ 6 の表示 V 範囲 (代表値は 0.2 ～ 4 V) で電圧を調整し、ターゲット素子を正確に制御することで、高品質、高解像度の表示を実現できます。

（４）低コスト：ガラス基板およびプラスチック基板は、大規模半導体集積回路のコスト問題を根本的に解決し、大規模半導体集積回路の応用に広い応用空間を開く。

(5) プロセスの柔軟性: スパッタリング、レーザーアニール技術に加え、CVD(化学気相成長) MCVD は、分子化学気相成長などの従来の成膜に加え、アモルファス膜、多品種膜、単一品種膜を選択できます。 シリコン膜だけでなく、他の加工も可能です。 I-VI および 4-V 族半導体膜。

一般的な応用分野では、TFT技術に基づくLCD液晶ディスプレイ画面は情報社会の柱となる産業であり、薄膜トランジスタの急速な発展にも使用できます。 (TFT-OLED) フラット パネル ディスプレイ。