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以下では、TFT LCD 画面のさまざまな特性を詳しく紹介します。

（1）大型化：1990年代初頭に第一世代の大型ガラス基板（3000mm×400mm）TFTが生産され、2000年前半にはガラス基板面積が6800mm×880mmに拡大し、最近では950mm×1200mmのガラス基板も生産されている。

（2）高集積化：LCD投影型1.3インチTFTディスプレイチップの解像度はXGAで、数百万画素を誇ります。SXGA（1280x1024）の16.1インチTFTアモルファスシリコンの膜厚はわずか50ナノメートルです。TABONGLASとSYSTEMONGLASSの技術集積度、設備・供給に対する技術要求、そして技術難易度は、従来のLSIよりも高くなっています。

（3）充実した機能：TFT液晶ディスプレイは、もともとマトリックスアドレス選択回路として利用され、液晶ライトバルブの特性を向上させました。高解像度ディスプレイの場合、LCDスクリーンは0～6V（表示電圧範囲：0.2～4V）の電圧を調整し、対象素子を適切に制御することで、高品質で高解像度の表示を実現します。

（４）低コスト：ガラス基板やプラスチック基板は、大規模半導体集積回路のコスト問題を根本的に解決し、大規模半導体集積回路の応用に幅広い応用空間を開拓する。

（5）プロセスの柔軟性：スパッタリング、レーザーアニール技術に加え、CVD（化学気相成長）MCVDは、分子化学気相成長法などの従来の成膜に加え、アモルファス膜、多成分膜、単成分膜を選択できる。シリコン膜だけでなく、I-VI族およびテトラV族半導体膜も作製できる。

一般的な応用分野において、TFT 技術に基づく LCD 液晶ディスプレイ画面は情報化社会の柱となる産業であり、薄膜トランジスタの急速な発展にも利用されています。(TFT-OLED) フラットパネルディスプレイ。